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反應設備、清洗設備
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簡(jiǎn)要描述：化學(xué)機械拋光液制備設備主要用于CMP（化學(xué)機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類(lèi)化學(xué)機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
產(chǎn)品型號：NP-CMP 廠(chǎng)商性質(zhì)：生產(chǎn)廠(chǎng)家更新時(shí)間：2023-12-20訪(fǎng) 問(wèn) 量：1461產(chǎn)品分類(lèi)
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化學(xué)機械拋光液制備設備主要用于CMP（化學(xué)機械拋光液）（包括基于氧化硅納米顆粒的拋光液、氧化鈰納米顆粒的拋光液、碳化硅化學(xué)機械拋光液、氧化鋁體系和硅溶膠體系的超精密加工類(lèi)化學(xué)機械拋光液）的分散和各種微納米材料、新能源材料、無(wú)機阻燃劑等的破碎、分散、分級、改性等。
化學(xué)機械拋光液制備設備的特點(diǎn)：
經(jīng)過(guò)測試的工藝路線(xiàn)，已經(jīng)實(shí)現量產(chǎn)
智能控制，實(shí)時(shí)監測，完整數據存儲，直觀(guān)顯示圖表
轉速可調，溫度可控，超聲波強度可調，可定時(shí)
操作方便簡(jiǎn)潔，清洗容易
技術(shù)參數：
Items | 實(shí)驗型Experiment Type | 生產(chǎn)型Production Type |
溫度Temperature（℃） | -30℃~80℃ | -20℃~80℃ |
分散方式Dispersion Type | 連續式continuous | 連續式continuous |
材質(zhì)Material quality | 玻璃、不銹鋼、鈦 glass or stainless steel | 不銹鋼、鈦stainless steel |
規格Specification | 依容積depend on volume | 定制customized |
流量Flow rate | 50~1000ml/min | 可定制customized |
介質(zhì)粘度media viscosity | ≤104cP | ≤104cP |
攪拌轉速agitation speed | 500~3000rpm依實(shí)際需求選擇 | 500~3000rpm依實(shí)際需求選擇 |
剪切轉速agitation speed | 1400~20000rpm依實(shí)際需求選擇 | 1400~12000rpm依實(shí)際需求選擇 |
電源Power | 220V/50Hz | 220V/50Hz 、380V/50Hz |
超聲功率Ultrasonic power | 200~3000W | 定制customized |
超聲頻率Ultrasonic Frequency | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz | 20KHz、28KHz、40KHz、68KHz |
顯示方式Display model | 數顯、液晶觸摸屏digital display,LCD touch screen 依據需要可選擇 | 液晶觸摸屏LCD touch screen |
其它Others | 溫度、功率可調Temperature、power adjustment | |
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